半导体含砷废气处理方法（半导体含砷废气如何治理）
- m6网页版环保集团
- 擅长：14年废气治理经验，提供方案及设备，助力企业废气达标排放
半导体行业在芯片制程工艺中，因其不间断使用有机溶剂和酸溶液直接产生了大量的有毒有害的废气，且需经过废气处理达标后才能高空排放。本文将介绍半导体含砷废气处理方法。
半导体含砷废气来源
含砷废气来源半导体掺杂制程工序，废气包括砷烷、磷烷和硼烷。
半导体含砷废气处理方法
处理含砷废气常用设备为砷磷烷吸附塔。半导体行业的含砷废气从机台端单独收集，形成独立的系统，砷烷磷烷的处理系统主要分为两个部分，d一阶段为Local Scrubber，即本地的干式吸附装置，采用的原理也是化学吸附，目前随着国j及各地区环保排放标准日驱严格，在含砷系统的Local Scrubber的基础上汇集到屋面时会在Central端再次进行干式吸附，使用的设备称为砷磷烷吸附塔，一般砷磷烷吸附塔也会配置一用一备模式，吸附后通过末端风机负压达标排放。
（m6网页版环保集团砷磷烷吸附塔，点击了解详情）
砷磷烷吸附塔利用化学反应、复分解反应等基本原理，与各种废气产生化学反应，生成稳定的无毒无害的化合物或者复合物，可直接用于修路、垃圾填埋等，不会产生二次污染。
以上就是《半导体含砷废气处理方法》的全部内容，希望对你有所帮助。m6网页版环保集团专注于泛半导体行业废气治理，可提供完整的含砷废气、含磷废气等特殊气体治理工艺及设备设计，保障废气达标排放，免费咨询热线400-9655-098。
提示：本网部分已发布的信息内容可能存在过时，请注意辨别。部分内容整理为互联网/转载官方发布，相关信息仅为传递更多信息之目的，不代表本网观点，不拥有所有权。如有侵权联系删除。